O equipo do profesor Francisco Rivadulla desenvolveu un novo método de deposición química en base acuosa para sintetizar películas delgadas epitaxiales de alta calidade, compostas de LaMnO3 (perovskita). O novo sistema, compatible coas técnicas de microfabricación estándar, permite a obtención destas películas a escalas de centímetros cadrados.
Os métodos químicos para a deposición de películas delgadas preséntanse como unha alternativa razoable e versátil ás técnicas de deposición física estándar («Deposición mediante Láser Pulsado», pulverización... etc). En particular, a razón pola que adoitan priorizarse as deposicións a partir dunha solución é evitar o uso de cámaras de alto baleiro, sendo en principio adecuadas para revestimentos en grandes áreas e formas complexas. Entre os métodos químicos baseados nun precursor líquido, a deposición por pulverización e sol-xel son habitualmente os máis utilizados.
Non obstante, e a pesar das vantaxes evidentes que presentan estas técnicas, os métodos químicos teñen tamén algúns inconvenientes, como soen ser un peor control do espesor e a estequiometría, unha interface máis grande, e rugosidade superficial, así como a dificultade para fabricar películas homoxéneas e multicapas en grandes áreas. Estes problemas constitúen unha considerable barreira entre os investigadores, que teñen limitado a aplicabilidade dos métodos de deposición química e o seu uso en aplicacións de alta esixencia.
O equipo do profesor Francisco Rivadulla vén de demostrar, malia todo, a idoneidade dun método de deposición química en base acuosa para sintetizar películas moi delgadas de perovskita (LaMnO3), de alta calidade e cun espesor inferior aos 20 nanómetros; ademais de ser barato e compatible coas técnicas de microfabricación estándar permite a súa preparación a escalas de cm2, obtendo como resultado final obleas de 1 polgada de diámetro.
O material utilizado para esta deposición (a perovskita, LaMnO3) é un illante de Mott; é dicir, un óxido cun rico diagrama das fases electrónica e magnética despois dunha dopaxe tipo p., que dá lugar a unha importante familia de óxidos cunha magnetorresistencia colosal. Este material foi identificado tamén como un dos catalizadores máis axeitados para as reaccións de redución electroquímica de osíxeno (celas de combustible), así como para a eliminación oxidativa do tolueno. Así, as propiedades físicas da familia das perovskitas inclúen a supercondutividade, a magnetorresistencia e propiedades dieléctricas, de grande importancia na microelectrónica e as telecomunicacións.
Todos estes factores insisten en sinalar a importancia de obter novas técnicas alcanzables para a deposición de películas delgadas de LaMnO3, libre de defectos en grandes áreas e cunha gran relación superficie/volume.